紫外臭氧清洗機（UVO）

目前紫外臭氧清洗機的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用，以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳?xì)浠衔铮?，獲得超潔凈的表面。

v 表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會與被切斷的表層分子結(jié)合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應(yīng)用：

• 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

• 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。

• 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。

• 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。

• 科研過程的表面清洗及處理：半導(dǎo)體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。

產(chǎn)品特點

• 成本低；

• 120x120mm樣品臺；

• 大處理樣品高14mm；

• 抽屜式樣品臺，簡單方便；

• 樣品臺自動安全開關(guān),打開UV自動關(guān)閉，防止對人身傷害；    

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• UVO顯示器

• LCD屏顯示“已用時間"和“剩余時間"；

• 60分鐘定時器；

• 高強度UV燈源；

• 可控溫的樣品臺；

• 樣品清洗無需溶劑；

• 超凈表面。

UVO樣品托盤

二、技術(shù)參數(shù)

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。